半导体刻蚀机
| 公司名称： | 厦门和伟达超声波设备有限公司 |
|---|---|
| 地 址： | 厦门火炬高新区（翔安）产业区翔虹路33号 |
| 手 机： | 邱经理 18060963375 |
| 电 话： | 5656688 5656655 |
| 公司网址： | www.xm-heda.com |
| QQ： | 3976837902 |
| 价格： | 价格面议 |
| 更多信息 | |
| 分享： |
|
上一条：
半导体去胶清洗机
下一条：
半导体硅片盒清洗设备
摘要
-
半导体刻蚀机机全自动晶圆刻蚀机福建厦门湿法刻蚀耐强酸碱刻蚀机
产品介绍
工艺零件参数
●清洗对象：6〞及以上晶片表面上刻蚀出指定电路或做边沿刻蚀；
●清洗量：非标可定制
设备结构参数（部分设备参考）
设备框架及外包板
●SUS304框架；
●进口盐白PP外包板；
●台面板网孔板设计，可单独拆装；
●其它材料：前门板为透明PVC，前门采用左右拉门；
●水平调整：通过地脚调整设备水平；
●设备移动：设备装有脚轮以备设备移动之用，机器内部上方有防酸日光灯；
●主体设备外形尺寸：非标可定制
POS1、POS3、POS5、酸洗槽
●槽体材质：进口PVDF，单槽结构，防漏槽材质：PP；
●内槽型式：STATIC；
●清洗药液：混酸；
●药液供给：手动供给；
●槽体盖子：有，PP槽盖；
●上下慢提拉机构：a.伺服慢提拉机构，
b.摇摆距离（可设定）
c.防腐承载挂钩，
d.摇摆次数 次/min；（可设定）
●排气：共用排气管路，材料为PP，设防腐排气风机，配置连接法兰及调节阀门，接口在设备的上部；
●排液：分两路，一般排放（洗槽废水）手动；单独排放，自动，气动阀（废液）
POS2、POS4、（QDR槽）
●槽体材质：PP, 内外槽结构，V型四边溢流，防漏槽材质：PP；
●清洗时间设定：0~9999sec；
●鼓泡：鼓泡管PP材质，电磁阀控制，手动阀调节N2流量。
●喷淋：喷淋管PP材质，PVDF
●温度：RT；
●排气：共用排气管路，设防腐排气风机，材料为PP，配置连接法兰及调节阀门
●进水阀及喷水阀均采用气动阀及手动流量控制阀；
●排液：自动排液，气动阀，一般排水管线。
●程序设定循环冲洗次数及喷淋时间（可调）
相关推荐+更多
-
单槽式超声波清洗机双槽式超声波工业清洗机
单槽式超声波清洗机双槽式超声波工业清洗机
-
非标三槽式超声波清洗机 （可定制）设备型号
非标三槽式超声波清洗机
-
全自动手机触摸屏超声波清洗机
全自动手机触摸屏超声波清洗机
-
十槽半自动手机屏幕超声波清洗机
十槽半自动手机屏幕超声波清洗机
